石墨烯管式爐的真空系統(tǒng)你是否有所了解呢？

　　一般真空管式爐的真空系統(tǒng)應(yīng)具有：快速將真空管式爐的真空度抽到規(guī)矩要求，能及時(shí)清掃被處理工件和爐內(nèi)構(gòu)件所釋放出的各種氣體，并且真空機(jī)組占地面積小，作業(yè)安全可靠，操作簡練三個(gè)要求。

　　石墨烯管式爐的*設(shè)計(jì)能夠?qū)崿F(xiàn)在真空保護(hù)條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要。

　　立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

　　由于石墨烯管式爐的種類是比較多的，并且每個(gè)對真空管式爐的真空系統(tǒng)要求都是不一樣的，根據(jù)真空度而言，有低真空，中真空，高真空三個(gè)系統(tǒng)。下面來詳細(xì)說一下這三個(gè)真空系統(tǒng)在石墨烯管式爐中的實(shí)際應(yīng)用。

　　1、低真空系統(tǒng)

　　真空管式爐的低真空系統(tǒng)適用于規(guī)劃的真空管式爐，如預(yù)抽低真空井式爐，大多以油封式旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵為主泵。

　　2、中真空系統(tǒng)

　　中真空系統(tǒng)適用于真空度在規(guī)劃的真空管式爐，中真空系統(tǒng)在真空管式爐的運(yùn)用中是比較廣泛的，一般由兩級真空泵機(jī)組組成。初級泵多選用旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵或滑閥式機(jī)械泵，主泵為機(jī)械增壓泵或油增壓泵。

　　3、高真空系統(tǒng)

　　高真空系統(tǒng)一般由三級真空泵機(jī)組組成，主泵一般選用離子泵，初級泵大都也是選用旋轉(zhuǎn)機(jī)械或滑閥式機(jī)械泵。